Proceso de 350 nm

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Fabricación de dispositivos semiconductores
Escalado MOSFET ( nodos de proceso )
0 10 µm  - 1971 00 6 µm  - 1974 00 3 µm  - 1977  1,5 µm  - 1981 00 1 µm  - 1984 800 millas náuticas  - 1987 600 millas náuticas  - 1990 350 millas náuticas  - 1993 250 millas náuticas  - 1996 180 millas náuticas  - 1999 130 millas náuticas  - 2001 0 90 millas náuticas  - 2003 0 65 millas náuticas  - 2005 0 45 millas náuticas  - 2007 0 32 millas náuticas  - 2009 0 22 nm  - 2012 0 14 millas náuticas  - 2014 0 10 millas náuticas  - 2016 00 7 nm  - 2018 00 5 mn  - 2020
Futuro 00 3 nm  ~ 2022 00 2 nm  ~ 2023
Medios nodos Densidad CMOS Dispositivo ( puerta múltiple ) Ley de moore Semiconductor Industria Nanoelectrónica
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El proceso de 350  nm se refiere al nivel de tecnología de proceso de semiconductores MOSFET que se alcanzó alrededor del período de tiempo 1993-1996, por empresas líderes de semiconductores como Sony , Intel e IBM .

Un MOSFET con una  longitud de canal de 300 nm fue fabricado por un equipo de investigación dirigido por K. Deguchi y Kazuhiko Komatsu en Nippon Telegraph and Telephone (NTT) en 1985. ^[1]

Productos con proceso de fabricación de 350 nm

• Sony introdujo un chip de memoria SRAM de 16 MB fabricado con un proceso de 350 nm en 1993. ^[2]   
• NEC , que introdujo un proceso CMOS  3LI de 350 nm en 1994, lo usó para procesadores en la consola de juegos Nintendo 64 (N64), lanzada en 1996.
  • NEC VR4300i (1995), la CPU utilizada en el N64.
  • Coprocesador SGI Reality (RCP), la GPU del N64 , fabricado por NEC. ^[3]
• Intel Pentium ( P54CS , 1995), Pentium Pro (1995) y CPU iniciales Pentium II ( Klamath , 1997).
• CPU AMD Am5x86 (1995) K5 (1996) y AMD K6 original (Modelo 6, 1997).
• МЦСТ-R150 (2001).
• Parallax Propeller (2006), microcontrolador de 8 núcleos. ^[4]

Referencias

1. Deguchi, K .; Komatsu, Kazuhiko; Miyake, M .; Namatsu, H .; Sekimoto, M .; Hirata, K. (1985). "Litografía híbrida de rayos X / foto de paso y repetición para dispositivos Mos de 0,3 μm" . 1985 Simposio sobre tecnología VLSI. Recopilación de artículos técnicos : 74–75. ISBN 4-930813-09-3.
2. "Memoria" . STOL (Tecnología de semiconductores en línea) . Consultado el 25 de junio de 2019 .
3. "Coprocesador de realidad - El poder en Nintendo64" (PDF) . Gráficos de silicio . Consultado el 18 de junio de 2019 .
4. "¿Tecnología de proceso de semiconductores de la hélice I? ¿Es 350nm o 180nm? - Foros de Parallax" . Forums.parallax.com. Archivado desde el original el 10 de julio de 2012 . Consultado el 13 de septiembre de 2015 .

Precedido por 600 nm

Procesos de fabricación CMOS

Sucedido por 250 nm

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